需要通过四重曝光技术来研发等效7纳米工艺的芯片了……而这一技术的制造成本更高。
所以从芯片的制造成本来看,尤其是使用DUV浸润式光刻机的情况下,采用双重曝光技术,生产14纳米工艺的芯片才是最划算的,这也包括智云12纳米工艺,毕竟智云的十二纳米工艺其实就是他们自己的第二代十四纳米工艺。
使用十纳米工艺的话,虽然芯片性能提升了一些,但是成本提升了很多,如果不是S系列手机这种奔着极限去,各种追求领先的产品,其实都没必要采用智云等效十纳米工艺的芯片。
这也是智云半导体的一大堆各种芯片设计里,基本都是围绕着十四纳米工艺以及十二纳米工艺展开的缘故。
至于十纳米工艺的芯片,目前就只有两种,一种是S系列手机使用的S806芯片,另外一种则是用于各种车辆以及无人机平台的算力芯片EYQ4。
其他的,包括AI训练芯片,暂时都不会采用这个十纳米工艺……划不来。
目前乃至未来两年内,智云集团这边新生产或设计的AI训练芯片,包括自用的AI系列,都会采用第二代十四纳米工艺,也就是智云宣传的十二纳米工艺制造。
其他各类芯片,电脑CPU,服务器CPU,各类显卡等等也将会采用十二纳米工艺制造。
同时还有一大堆已经设计生产的芯片用的是第一代十四纳米工艺。
至于十八纳米工艺的一些产品,则是已经陆续停产,该工艺也是属于过度工艺,性价比太低了。
未来好几年内,智云集团的各类芯片,不管自用还是外销,都会采用十四纳米工艺为主,当然,这个十四纳米工艺可能会有很多种,包括第一代十四纳米工艺,第二代十四纳米工艺(十二纳米),然后还有其他的一些变种工艺,以满足不同类型的芯片的需求。
至于更先进,但是性价比太低的十纳米工艺,注定只是个过渡工艺。
智云集团的一些先进芯片,如AI训练芯片,手机SOC芯片,机载算力卡这些对工艺要求高,对算力要求高的芯片,则是都把目光面瞄向了更好的等效七纳米工艺……虽然那玩意的成本会更高,但是带来的性能提升也足够大,所以咬咬牙也能用。
这就是没有EUV光刻机的尴尬了。
如果有EUV光刻机的话,等效七纳米芯片的成本就能拉下来,同样的,等效十纳米工艺其实用EUV光刻机来生产也更方便,成本更低。
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